Hot N2 ヒータ
真空排気配管を常に清浄を保つ新ツール
半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険をはらんでいます。
HOT・N2は既設の希釈用N2ガスを利用して、これらの諸問題を低コストで防止、解消します。
HOT・N2はクライオポンプの再生時間短縮、ロードロック室のパージにも利用できます。
従来技術との比較
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排気配管を外側から保温してパウダーの付着を抑制する技術は従来からありますが、これは配管内壁のみの保温となるため形状が複雑になると保温が不十分な箇所にパウダーが付着・成長します。 |
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HOT・N2の取付方法
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HOT・N2の設置効果
| プロセス | マシン | 取付位置 | 効果 |
| P-CVD装置 | Centura | VP直後 | デポ体積が激減 |
| P-CVD装置 | ConceptⅡ | VP直後 | 真空ポンプの故障減 |
| ドライエッチング装置 | METAL Centura | VP直後 | 排気管のダストトラブル減 |
| ドライエッチング装置 | M-308 | VP直後 | バブルの閉塞トラブル減 |
